Главная -> Публикации -> Ползуновский вестник - 2008 ->

 

СВОБОДНЫЕ РАДИКАЛЫ В ФОТОХИМИИ КОМПЛЕКСОВ ЖЕЛЕЗА(III) В МОДЕЛЬНЫХ И ПРИРОДНЫХ ВОДНЫХ СИСТЕМАХ
Е.М. Глебов, И.П. Поздняков, В.П. Гривин, В.Ф. Плюснин, Н.М. Бажин, Е. Бундуки, Чанг Сюй, Фенг Ву, Денг Наншенг
Институт химической кинетики и горения СО РАН, г. Новосибирск, Молдавский государственный университет, г. Кишинев, Молдова, Университет г. Ухань, КНР

Ползуновский вестник 2008, № 3, С.32-36

Методом наносекундного лазерного импульсного фотолиза исследованы первичные процессы в гомогенных и гетерогенных водных растворах. Доказано образование гидроксильного радикала при фотолизе суспензий железосодержащей глины (монтмориллонит KSF). Показано, что фотолитическим источником OH-радикалов являются комплексы Fe(OH)2+, находящиеся в объеме растворителя. Исследованы первичные фотопроцессы для омплексов Fe(III) с оксикислотами; винной, пировиноградной и глиоксалевой. Показано, что во всех случаях первичным фотохимическим процессом является внутрисферный перенос электрона в возбужденном светом комплексе с образованием радикальных комплексов. Для пирувата и глиоксалата Fe(III) обнаружены спектральные проявления этих комплексов. Определены константы скоростей реакций с участием радикальных продуктов фотолиза.

Выпуск журнала (скачать PDF)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

  

Рейтинг@Mail.ru